rf 전력 공급

pecvd 시스템 튜브 퍼니스, 석영 진공 챔버, 진공 시스템, 가스 공급으로 구성 시스템 및 rf 전원 공급 시스템. 주로 사용되는 금속 필름, 세라믹 필름, 복합 필름, 그래 핀 및 기타 성장. 기능을 쉽게 향상시킬 수 있습니다. 플라즈마 세정 에칭 및 에칭의. pecvd 시스템은 높은 장점을 갖는다 증착 속도, 우수한 균일 성, 일관성 및 안정성.

전력 출력 범위	0-500w
최대 반사 전력	200w
작동 주파수	rf ： 13.56 백만 헤르쯔 ± 0.005 %
pw 안정성	+/- 0.1 %
고조파 성분	≤ -50dbc
rf 폭	조정 가능한 0-600mm
매칭 모드	자동
냉각 모드	공기 감기
소음	& lt; 50db
rf 인터페이스	50 Ω n 형
입력 파워	208-240V 50 / 60Hz

1. 우리는 기계를 공급 배터리 기술 지원.

2. 우리는 공급 전 세트 리튬 배터리 장비 실험실 연구, 파일럿 규모 연구 및 생산 린 이자형.

1 표준 수출 패키지 : 내부 충돌 방지 보호, 외부 수출 나무 상자 포장.

2 배송 익스프레스, 공기, 바다 고객의 요구 사항에 따라 가장 적합한.

3 운송 과정에서 손상에 대한 책임은 무료로 손상 부분을 변경합니다.